- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/86 - Inspection au moyen d'un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam]
Détention brevets de la classe G03F 1/86
Brevets de cette classe: 77
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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ASML Netherlands B.V. | 6816 |
13 |
Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
12 |
KLA-Tencor Corporation | 2574 |
8 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
6 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
5 |
Applied Materials Israel, Ltd. | 549 |
3 |
Lam Research Corporation | 4775 |
3 |
NuFlare Technology, Inc. | 770 |
3 |
KLA Corporation | 1223 |
3 |
Hitachi High-Technologies Corporation | 2034 |
2 |
FUJIFILM Corporation | 27102 |
2 |
SK Hynix Inc. | 11030 |
2 |
Hoya Corporation | 2822 |
2 |
Hitachi High-Tech Corporation | 4424 |
2 |
Nikon Corporation | 7162 |
1 |
Advantest Corporation | 1939 |
1 |
Carl Zeiss SMS GmbH | 56 |
1 |
Carl Zeiss SMS Ltd. | 44 |
1 |
Dongfang Jingyuan Electron Limited | 36 |
1 |
Exogenesis Corporation | 77 |
1 |
Autres propriétaires | 5 |